电镀含氰废水处理 二氧化氯发生器
2026-05-29
核心优势（对比传统氯系）
- ✅ 高*破氰：ClO₂氧化力是氯的2.6 倍，对 ** 络合氰（Cu/Zn/Ni-CN）** 去除率更高
- ✅ 投量省：ClO₂/CN⁻质量比3.5～4.5（理论 1.04），远低于次氯酸钠（7～8）
- ✅ 无二次污染：不生成三氯甲烷、氯胺，不增加盐度
- ✅ pH 适应性好：强碱性下稳定，适合电镀高碱废水
- ✅ 安全易控：现场发生、负压投加、ORP/pH 自控，无液氯泄漏风险
三、工艺流程（标准两级破氰）
含氰废水 → 调节池 → 一级破氰池（pH11～11.5+ClO₂） → 二级破氰池（pH8～9+ClO₂） → 沉淀池 → 中和池 → 达标排放
关键单元参数
- 调节池：停留4h，均质均量
- 一级破氰池：pH11～11.5，ORP**+450～+550mV**，停留15min
- 二级破氰池：pH8～9，ORP**+600～+700mV**，停留30min
- 沉淀池：表面负荷2m³/(m²·h)，沉淀1.5h
四、设备选型（二氧化氯发生器）
1）工艺选择（*先化学法）
- 高纯化学法（亚氯酸钠 + 盐酸）：ClO₂纯度≥90%，副产物少，适合高浓度含氰（≥100mg/L）
- 氯酸钠 + 硫酸（复合 ClO₂+Cl₂）：成本低，适合低浓度（≤50mg/L），需控氯酸盐
- 电解法（食盐）：适合小规模（≤50m³/d），操作简单但纯度低
2）选型计算（核心：CN⁻浓度 × 水量）
- 公式：发生器产量 (g/h)=CN⁻浓度 (mg/L)× 水量 (m³/h)×4÷1000
- 示例：100m³/d、CN⁻=200mg/L → 200×4.17×4÷1000≈3.3kg/h，选5kg/h发生器（一用一备）
3）配置清单（标准系统）
- 发生器：化学法，5～50kg/h，PVC/FRPP 防腐
- 原料罐：亚氯酸钠（25%）、盐酸（31%），PE/FRP，独立防腐库房
- 投加系统：水射器、混合器、ORP/pH 自控，闭环投加
- 安全系统：负压运行、通风、洗眼器、中和池
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